Оборудование для нанесения покрытия испарения тигля, системы низложения тонкого фильма иодида цезия

Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма CsI/оборудование для нанесения покрытия испарения тонкого фильма иодида цезия термальное

Представление покрытий испарения тонкого фильма иодида цезия термальное

Ультра- высокое пространственное разрешение воображений;

Быстрая реакция для более острых воображений;

Зоны изображения кра-к-края класса ведущие;

Оптически слои амортизатора или слои рефлектора;

Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;

Соответствующий для приборов CMOS и CCD, особенно в медицинских промышленностях.

Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма CsI для приборов CCD CMOS предварительный метод для того чтобы испарить CsI на экране для того чтобы дать высококачественное.

Эффективность:
Модель CsI-950A+ с роторной структурой шкафа 2 основанной на поколении - одной модели CsI-950.
Двух-емкость для максимального субстрата размера: 500 x400mm.

Надежность:
24/7 деятельност дней нон-стоп;
Регулятор толщины фильма Inficon для того чтобы контролировать толщину фильма последовательно.
Точность контроля температуры: ℃ ±1, многошаговая установка, автоматическая запись данным по температуры и контроль
Роторные шкафы оборудованные с сервомотором для высокой точности и стабильности.

Повторимость & воспроизводимость:
Через высокую уточненную систему управления параметра,
Автоматизированные программное обеспечение и программа управления производственным процессом,
Дружественная деятельность.

Безопасность:

Вачуумный насос глубокого вакуума: Насос магнитного подвеса молекулярный, с прибором газа азота дуя для избежания материала опасности подвергался действию в воздух;
Все электроды оборудованы с рукавом предохранения от безопасности

Система низложения глубокого вакуума CsI исключительно конструирована для металлизирования CsI на экранах сцинтилляции в весьма окружающей среде глубокого вакуума. Scintillators CsI 200~600µm в рядах толщины с высоким единообразием представления толщины и яркости.

Характеризации низложения иодида цезия (CsI):
Ультра- высокое пространственное разрешение воображения;
Быстрая реакция для более острого воображения;
Зоны изображения кра-к-края класса ведущие;
Оптически поглотите слои или слои рефлектора;
Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;

Применение: для проверки безопасности и осмотра, образования физики высоких энергий, ядерного обнаружения radiaton и медицинских отображений: рассмотрение комода, mamography, зубоврачебные взаимо- устное и панорамный.
Субстраты прикладные: Стекло TFT, плита оптического волокна, плита аморфного углерода, алюминиевая плита

Пожалуйста свяжитесь мы для больше спецификаций, королевская технология удостаивает для того чтобы обеспечить вам полные покрывая решения.