Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма CsI/оборудование для нанесения покрытия испарения тонкого фильма иодида цезия термальное
Представление покрытий испарения тонкого фильма иодида цезия термальное
Ультра- высокое пространственное разрешение воображений;
Быстрая реакция для более острых воображений;
Зоны изображения кра-к-края класса ведущие;
Оптически слои амортизатора или слои рефлектора;
Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;
Соответствующий для приборов CMOS и CCD, особенно в медицинских промышленностях.
Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма CsI для приборов CCD CMOS предварительный метод для того чтобы испарить CsI на экране для того чтобы дать высококачественное.
Эффективность:
Модель CsI-950A+ с роторной структурой шкафа 2 основанной на поколении - одной модели CsI-950.
Двух-емкость для максимального субстрата размера: 500 x400mm.
Надежность:
24/7 деятельност дней нон-стоп;
Регулятор толщины фильма Inficon для того чтобы контролировать толщину фильма последовательно.
Точность контроля температуры: ℃ ±1, многошаговая установка, автоматическая запись данным по температуры и контроль
Роторные шкафы оборудованные с сервомотором для высокой точности и стабильности.
Повторимость & воспроизводимость:
Через высокую уточненную систему управления параметра,
Автоматизированные программное обеспечение и программа управления производственным процессом,
Дружественная деятельность.
Безопасность:
Вачуумный насос глубокого вакуума: Насос магнитного подвеса молекулярный, с прибором газа азота дуя для избежания материала опасности подвергался действию в воздух;
Все электроды оборудованы с рукавом предохранения от безопасности
Система низложения глубокого вакуума CsI исключительно конструирована для металлизирования CsI на экранах сцинтилляции в весьма окружающей среде глубокого вакуума. Scintillators CsI 200~600µm в рядах толщины с высоким единообразием представления толщины и яркости.
Характеризации низложения иодида цезия (CsI):
Ультра- высокое пространственное разрешение воображения;
Быстрая реакция для более острого воображения;
Зоны изображения кра-к-края класса ведущие;
Оптически поглотите слои или слои рефлектора;
Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;
Применение: для проверки безопасности и осмотра, образования физики высоких энергий, ядерного обнаружения radiaton и медицинских отображений: рассмотрение комода, mamography, зубоврачебные взаимо- устное и панорамный.
Субстраты прикладные: Стекло TFT, плита оптического волокна, плита аморфного углерода, алюминиевая плита
| Описание | CsI-950 |
CsI-950A+
|
|
Камера низложения (mm)
|
φ950 x H1350 |
φ950 x H1350
|
| Нагружая роторные шкафы | 1 | 2 |
| Источники испарения | 2 |
2
|
| Метод топления |
Лампа вольфрама йода Максимальное 800℃ |
Лампа вольфрама йода Максимальное 800℃ |
| Давление вакуума Ultimated (PA) | 8.0×10-5Pa | 8.0×10-5Pa |
| Насос магнитного подвеса молекулярный | 1 x 3400L/S |
1 x 3400L/S
|
| Корни нагнетают | ³ /h 1 x 490m |
³ /h 1 x 490m
|
| Роторный насос лопасти | ³ /h 1 x 300m |
³ /h 1 x 300m
|
| Регулятор низложения | Управление x 1 кварца |
Управление x 1 кварца
|
| Расход энергии (KW) |
Максимальные приблизительно 62 Среднее приблизительно 32 |
Максимальные приблизительно 65 Среднее приблизительно 35 |
Пожалуйста свяжитесь мы для больше спецификаций, королевская технология удостаивает для того чтобы обеспечить вам полные покрывая решения.
