Оборудование для нанесения покрытия испарения тигля, системы низложения тонкого фильма иодида цезия

Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма КсИ/оборудование для нанесения покрытия испарения тонкого фильма иодида цезия термальное

Представление покрытий испарения тонкого фильма иодида цезия термальное

Ультра- высокое пространственное разрешение воображений; 

Быстрая реакция для более острых воображений; 

Зоны изображения кра-к-края класса ведущие; 

Оптически слои амортизатора или слои рефлектора; 

Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;

Соответствующий для приборов КМОС и ККД, особенно в медицинских промышленностях.

Лакировочная машина вакуума низложения тонкого фильма КсИ для приборов ККД КМОС предварительный метод для того чтобы испарить КсИ на экране для того чтобы дать высококачественное. 

Эффективность:
Модель КсИ-950А+ с роторной структурой шкафа 2 основанной на поколении - одной модели КсИ-950.
Двух-емкость для максимального субстрата размера: 500 кс400мм.

Надежность:
24/7 деятельност нон-стоп дней;
Регулятор толщины фильма Инфикон для того чтобы контролировать толщину фильма последовательно.
Точность контроля температуры: ℃ ±1, многошаговая установка, автоматическая запись данным по температуры и контроль
Роторные шкафы оборудованные с сервомотором для высокой точности и стабильности.

Повторимость & воспроизводимость:
Через максимум уточненная система управления параметра,
Автоматизированные программное обеспечение и программа управления производственным процессом,
Дружественная деятельность.

Безопасность:

Вачуумный насос глубокого вакуума: Насос магнитного подвеса молекулярный, с прибором газа азота дуя для избежания материала опасности подвергался действию в воздух;
Все электроды оборудованы с слев предохранения от безопасности

Система низложения глубокого вакуума КсИ исключительно конструирована для металлизирования КсИ на экранах сцинтилляции в весьма окружающей среде глубокого вакуума. Ссинтиллаторс КсИ 200~600µм в толщине выстраивают в ряд с высоким единообразием представления толщины и яркости.

Характеризации низложения иодида цезия (КсИ):
Ультра- высокое пространственное разрешение воображения;
Быстрая реакция для более острого воображения;
Зоны изображения кра-к-края класса ведущие;
Оптически поглотите слои или слои рефлектора;
Низкая терпеливая доза рентгеновского снимка;

Применение: для проверки безопасности и осмотра, образования физики высоких энергий, ядерного обнаружения радятон и медицинских отображений: рассмотрение комода, мамографы, зубоврачебные взаимо- устное и панорамный.
Приложенные субстраты: Стекло ТФТ, плита оптического волокна, плита аморфного углерода, алюминиевая плита

Пожалуйста свяжитесь мы для больше спецификаций, королевская технология удостаивает для того чтобы обеспечить вам полные решения покрытия.