PVD Direct Plating Silver на керамических диэлектрических фильтрах — это передовая технология покрытия, применяемая к базовой станции 5G и другим полупроводникам для электронной промышленности.Одним из типичных применений является керамическая излучающая подложка.Осаждение проводящей пленки серебра/меди на подложках из оксида алюминия (Al2O3), AlN с помощью технологии вакуумного напыления PVD имеет, прежде всего, одно большое преимущество по сравнению с традиционными методами производства: DBC LTCC HTCC, который имеет гораздо более низкие производственные затраты.Команда Royal Technology сотрудничала с нашим клиентом для разработки процесса PVD-покрытия серебра, успешно применяемого с технологией напыления, которая может заменить традиционный процесс чистки жидким серебром.
Типичные области применения
И это лишь некоторые из них. Для получения дополнительных приложений обращайтесь в Royal Tech.
Система периодического напыления RTAS1215 является модернизированной версией, новейшая система имеет несколько преимуществ:
Более эффективный процесс
1. Двустороннее покрытие доступно благодаря конструкции поворотного приспособления.
2. До 8 стандартных планарных катодных фланцев для нескольких источников
3. Большая производительность до 2,2 мкм керамической стружки за цикл.
4. Полная автоматизация, ПЛК+сенсорный экран, система управления одним касанием
Низкая стоимость производства
1. Оснащен 2 комплектами молекулярных насосов с магнитной подвеской, быстрым запуском, бесплатным обслуживанием.
2. Максимальная мощность нагрева
3. Восьмиугольная форма камеры для оптимального использования пространства, до 8 дуговых источников и 4 распыляющих катода для быстрого нанесения покрытий.
Технические характеристики
Модель: РТСП-Аг1215
Высота камеры (мм): 1500
Диаметр камеры (мм): φ1200
Распыляющие катоды Монтажный фланец: 4
Монтажный фланец источника ионов: 1
Монтажный фланец дуговых катодов: 8
Сателлиты (мм): 16 x Φ150
Импульсная мощность смещения (кВт): 36
Мощность распыления (кВт): DC36 + MF36
Мощность дуги (кВт): 8 х 5
Мощность ионного источника (кВт): 5
Мощность нагрева (кВт): 36
Эффективная высота покрытия (мм): 1020
Молекулярный насос с магнитной подвеской: 2 x 3300 л/с
Насос Рутса: 1 x 1000 м³/ч
Ротационно-лопастной насос: 1 x 300 м³/ч
Удерживающий насос: 1 x 60 м³/ч
Вместимость: 2,2 м²
Площадь установки (Д x Ш x В) мм: 4200*6000*3500
Insite
Время постройки: с 2016 года.
Количество: 3 комплекта
Местонахождение: Китай
По сравнению с огромным спросом на рынке производительность пакетной системы низкая;мы посвятили себя разработке встроенной системы напыления (линия непрерывного напыления) с устройствами автоматической загрузки/разгрузки роботов.Любой, кто заинтересован в этой системе, пожалуйста, свяжитесь с нашим специалистом для получения дополнительных спецификаций.
