|
| Наименование марки: | ROYAL |
| Номер модели: | РТАК |
| MOQ: | 1 комплект |
| Условия оплаты: | Т/Т, Л/К |
| Способность к поставкам: | 500 комплектов в месяц |
ПВД-машина для ионного покрытия/покрытия,машина для покрытия тонкой пленкой
Применение
Его можно использовать для покрытия металлической пленки, нитрида титана, карбида титана и нитрида циркония, нитрида хрома и пленки титана, никеля, хрома, меди и других соединений,многослойная сверхжесткая пленка, азотно-допированная титановая пленка и пленка из сплава (TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, Cu, Au, Al2O3 и другие декоративные пленки и т.д.) и в очень короткие сроки завершить весь процесс обработки,Это высокоэффективное многофункциональное оборудование для покрытия..
Эта машина широко используется в области декоративного покрытия для нержавеющей стали, керамической плитки / чашек, компьютеров, мобильных телефонов, часов и ювелирных изделий, санитарных, бытовых приборов, гостиничных продуктов и т. Д.
СТРАНИЦЫ
Он имеет надежную работу, хорошую повторяемость и консистенцию, быструю скорость осаждения, высокую адгезию, тонкую пленку и т. Д. Пленка покрытия плотная и твердая с низким коэффициентом трения,для сохранения гладкости поверхности оригинальной заготовки, хорошая гибкость, трудно сломаться и упасть.
Устройство позволяет полностью автоматизировать технологию покрытия. Он использует вакуумную технику покрытия для покрытия поверхности базового материала.высокий уровень квалификации, экологически чистой охраны окружающей среды и т.д.
Машины для покрытия тонкой пленкой
Модель |
RTAC-900 | RTAC-1000 | RTAC-1250 | RTAC-1400 | RTAC-1600 | ||||
| Внутренний размер камеры | 900х1100 мм | 1000х1200 мм | 1250х1350 мм | 1400х1600 мм | 1600х1600 мм | ||||
| Тип источника питания | Электрическое питание дугой, питание нитью, питание импульсным уклоном | ||||||||
| Структура вакуумной камеры | Вертикальная конструкция передней двери, задняя система выхлопа воздуха и двойная камера охлаждения водой | ||||||||
| Материал вакуумной камеры | из нержавеющей стали 304/316L | ||||||||
| Окончательный вакуум | 6.0х10- 4Pa (камера разгрузки, очистки, сушки) | ||||||||
| Скорость вакуумного насоса | от атмосферы до 8,0*10- Три.Pa ≤ 15 минут | ||||||||
| Вакуумная насосная система | Диффузионный насос или молекулярный насос + Корневой насос + Механический насос + Удерживающий насос (конкретная модель может быть выбрана в соответствии с требованиями клиента) |
||||||||
| Источник дуги | 6 единиц или 8 единиц |
8 единиц или 10 единиц |
10 единиц или 12 единиц |
14 единиц или 16 единиц |
16 единиц или 18 единиц |
||||
| Электрическое питание с предубеждением | 20 КВт/комплект | 20 КВт/комплект | 30 КВт/комплект | 40 КВт/комплект | 50 кВт/комплект | ||||
| Модель вождения | Планетарный оборот и вращение, регулирование скорости переменной частоты (управляемый и регулируемый) |
||||||||
| Система отопления | Управляемый и регулируемый от комнатной температуры до 450°C (управление температурой PID) |
||||||||
| МФК | Система управления и отображения газового потока в процессе с тремя или четырьмя путями, система выборочного автоматического газирования | ||||||||
| Система охлаждения | Режим охлаждения циркуляции воды, охлаждающая башня воды или промышленный охладитель воды или система глубокого охлаждения (представляется заказчиком) | ||||||||
| Режим управления | Режим ручной/автоматической интеграции, работа с сенсорным экраном, управление ПЛК или компьютером | ||||||||
| Общая мощность | 30 кВт | 35 кВт | 45 кВт | 60 кВт | 75 кВт | ||||
| Сигнализация и защита | Тревога о нехватке воды, перенапряжении и перенапряжении, открытой цепи и других ненормальных условиях насосов, целей и т.д. и выполнение соответствующих защитных мер и электрической функции блокировки | ||||||||
| Площадь оборудования | W2,5m*L3,5m | W3m*L4m | W4m*L5m | W4,5m*L6m | W5m*L7m | ||||
| Другие технические параметры | Давление воды ≥ 0,2 МПа, температура воды ≤ 25°C, давление воздуха 0,5-0,8 МПа | ||||||||
| Примечания | Специфическая конфигурация оборудования для покрытия может быть разработана в соответствии с требованиями процесса покрытия. | ||||||||
