|
| Наименование марки: | ROYAL |
| Номер модели: | РТАС1250 |
| MOQ: | 10 набор |
| цена: | обсуждаемый |
| Условия оплаты: | АККРЕДИТИВ, D/A, D/P, T/T |
| Способность к поставкам: | 6 комплектов в месяц |
Тиновое золото Среднечастотная магниторонная распыляющая покрывающая машина / МФ распыляющая система
Магнитно-спутниковое вакуумное покрытие - это тип ПВД-ионного покрытия поверхностной обработки.стеклоКонцепция осаждения распыливания: материал покрытия (цель, также называемый катодом) и рабочие части (субстраты,также называемые анодами) помещаются в вакуумную камеру и давление снижаетсяПропыляние начинается путем помещения цели под дифференциальным напряжением и введения газа аргона, который образует ионы аргона (световой разряд).Ионы аргона ускоряются к цели процесса и смещают атомы целиЭти распыляющие атомы затем конденсируются на подложке и образуют очень тонкий и высокоравномерный слой.или ацетилена в газообразные распылители во время процесса покрытия.
Магнитронные модели распыливания: DC-распыливание, MF-распыливание, RF-распыливание
Что такое MF Sputtering?
По сравнению с ПД и РЧ распыливанием, среднечастотный распылитель стал основным методом распыливания тонкой пленки для массового производства покрытия,в частности, для отложения пленки диэлектрических и непроводящих пленковых покрытий на поверхности, такие как оптические покрытия, солнечные батареи, многослойные панели, композитные пленки и т.д.
Он заменяет радиочастотный распылитель, поскольку он работает на кГц, а не на МГц, для гораздо более быстрой скорости отложения, а также может избежать отравления цели во время отложения тонкой пленки с соединениями, таких как DC.
Цели для распыливания МФ всегда существовали с двумя комплектами. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
Производительность системы распыливания МФ
1. Окончательное вакуумное давление: лучше 5,0×10-6Торр.
2Рабочее вакуумное давление: 1,0×10-4Торр.
3Время откачки: от 1 atm до 1,0×10-4Torr≤ 3 минуты (комнатная температура, сухая, чистая и пустая камера)
4Металлизирующий материал (распыливание + испарение дуги): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC и т.д.
5Модель работы: полностью автоматически / полуавтоматически / вручную
Структура системы распыливания МФ
Машина для вакуумного покрытия содержит ключевую комплектующую систему, перечисленную ниже:
1Вакуумная камера.
2. Система вакуумного насоса грубости (пакет обратного насоса)
3Высоковакуумная насосная система (магнитно подвесный молекулярный насос)
4Электрическая система управления и управления
5Система вспомогательных объектов (подсистема)
6. Система осаждения: MF распыляющий катод, MF источник питания, Bias источник питания ион для опциона
Спецификации системы распыливания MF RTSP1212-MF
| Модель | RTSP1212-MF | ||||||
| Технологии | МФ магнитронная распылка + ионное покрытие | ||||||
| Материал | Нержавеющая сталь (S304) | ||||||
| Размер камеры | Φ1250*H1250 мм | ||||||
| Тип камеры | Цилиндр, вертикальный, с одной дверью | ||||||
| Система распыливания | Конструкция исключительно для отложения тонкой черной пленки | ||||||
| Материал для депонирования | Алюминий, серебро, медь, хром, нержавеющая сталь, Никель |
||||||
| Источник сдачи | 2 набора цилиндрических MF-целей для распыливания + 8 направляемых источников катодной дуги | ||||||
| Газ | MFC- 4 пути, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| Контроль | ПЛК ((Программируемый логический контроллер) + | ||||||
| Система насоса | SV300B - 1 комплект (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 комплект (Leybold) | |||||||
| D60T- 2 комплекта (Leybold) | |||||||
| Турбомолекулярные насосы: 2* F-400/3500 | |||||||
| Предыдущая обработка | Силовое питание с предубеждением: 1*36 KW | ||||||
| Система безопасности | Многочисленные блокировки безопасности для защиты операторов | ||||||
| СОХЛЕДЕНИЕ | Холодная вода | ||||||
| Электроэнергия | 480В/3 фазы/60Гц (соответствует требованиям США) | ||||||
| 460V/3 фазы/50HZ (соответствует требованиям Азии) | |||||||
| 380V/3 фазы/50HZ (соответствует требованиям ЕС-CE) | |||||||
| Отпечаток ног | L3000*W3000*H2000 мм | ||||||
| Общая масса | 7.0 T | ||||||
| Отпечаток ног | (L*W*H) 5000*4000*4000 мм | ||||||
| Время цикла | 30 ~ 40 минут (в зависимости от материала субстрата, геометрия субстрата и условия окружающей среды) |
||||||
| ПУВЕР МАКС.. | 155 кВт | ||||||
|
Средняя мощность |
75 кВт |
У нас есть больше моделей для вашего выбора!
Пожалуйста, свяжитесь с нами для получения дополнительных сведений, Royal Technology с честью предоставит вам полные решения по покрытию.
